Porque é que a Intel está a lutar com 10nm quando a Samsung e a TSMC já estão a trabalhar com 7nm?

Samsung e TSMC não estão "a trabalhar em 7nm" - eles têm 7nm a trabalhar. A Samsung iniciou a produção total em Outubro passado com a Extreme Ultraviolet Lithography (EUV). A TSMC está de certa forma mais adiantada, uma vez que começou alguma produção de 7nm em Abril passado utilizando a litografia convencional, e está a preparar a sua próxima geração de EUV 7nm melhorada para a produção completa em Março. Eles também estão ganhando cerca de 10% de seus rendimentos em 7nm, mais do que qualquer outro processo atual.

Intel basicamente assumiu um grande risco ao chegar a 10nm mais cedo, e praticamente falhou. Eles estavam empurrando a litografia convencional com dupla e quádrupla padronização para os seus limites. As escolhas que fizeram na implementação da tecnologia foram as erradas, e acabaram num beco sem saída, forçando-os essencialmente a começar de novo.

A boa notícia, se você é um fã da Intel, é que o trabalho deles no seu próprio processo EUV 7nm, sendo desenvolvido por uma equipe diferente, não sofreu muito com esse atraso. Portanto, os seus 10nm fixos podem ser um processo de curta duração.

A outra coisa a entender é que não há padronização na nomenclatura de um processo. A nomenclatura típica veio do Leff - o comprimento mínimo efetivo de um canal transistor. Mas uma medida muito melhor seria a densidade dos transístores. A densidade de transistor de 14nm++ da Intel é competitiva com a densidade de 10nm da Samsung e da TSMC. E a agressiva densidade de 10nm da Intel já é maior do que a de 10nm da Samsung, e provavelmente bastante comparável à de 7nm da TSMC. Se os 7nm da Intel chegarem dentro do prazo em 2021-2022, pode ser o processo mais avançado do planeta... a menos que alguém chegue lá primeiro.

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